第983章 光刻机流片成功
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重曝光技术，是没有太多头绪和方向的。结果小黄提出了一个非常有意思的方向，从而让我们成功的做出来了多重曝光技术。”
听着孟轻舟的这番话。
在这里的林墨，也就是点了点头。
“嗯，不错。”
林墨的神色淡定。
“行，继续加油，关于28nm流片成功这件事，我这边会通知李市首的。
这些事儿，也是时候，可以去进行宣传了，另外工厂建设这件事......也得好好的去考虑下了......
你们的话全力给我突破，多重曝光技术，尽早实现7nm的芯片流片！”
说着的，林墨就是挂断了电话。
整个人的神色，兴奋不已！！
28nm的芯片，流片良品率达到98%！
这可以说是，开创了先河的！
大部分的光刻机，28nm的芯片，良品率达到80%、90%，就是非常牛逼了.......
而自己的光刻机，现如今的良品率，居然能达到98%！
这不是开创了先河，是什么？
另外便是......
多重曝光技术。
芯片多重曝光技术。
这个技术，是大部分的光刻机厂商的核心技术。
光刻机在进入第四代之后，最小的工艺结点，就是28nm。
至于第五代光刻机，目前全球是被一一家公司垄断掉了。
至于第六代光刻机.......
这玩意，尚处于传说中。
而第四代的光刻机，在节点达到了28nm之后。
想要进一步缩小，依靠单次曝光，已经是无能为力了......
故此的，产业界开始采用多次曝光，或者是刻蚀来实现缩小制程。
其中，最关键的两种工艺是双重曝光技术，以及自对准双重成像技术。
所谓的双重曝光，采用的技术就是，前后曝光不同图形叠加，来实现更小，更精细的制程。
这种方法的优点是可以实现更高精度，缺点是增加了成本和工艺，且对叠加精度要求较高。
相较之下，自对准双重成像技术则容易得多，同时可以实现精度提高一倍。
但是这种办法，也是有一个非常明显的缺点。
那就是设计工程师，设计出来的版图必须符合一定的规则。
换而言之......
只有符合一定规则的设计，才适合使用自对准双重成像技术.......
正是因此的......
全世界，各个光刻机工厂，才是会如此的头疼......
对于这个技术，只能叹息着......
毕竟......
两个办法，各有优劣.......
但是，第四代的光刻机，的确是走到了尽头......
而第五代的光刻机，却是被彻底的垄断了......
想要打破垄断，就只能想办法，实现技术上的突破。
创造出来......
属于自己的极紫外线光刻机.......
然而，这里面的难度，又岂是那么轻松，就能突破掉的？？
若是真的有那么简单，这个技术，就不会困扰全球的光刻机市场，这么多年了......
心中叹息......
林墨随后的，就是拨通了李市首的电话。
随着电话拨通了之后，李市首的声音响起。
“哈哈！林先生，您有什么事情吗？”
“嗯，李市首，我是来通知你一件事的。”
林墨淡漠的道。
“我研究所的光刻机，流片成功了，制造出来的芯片，良品率，98%......”
“多......多少？！！”
这一刻，李市首直接的，失声喊道。
神色，更是惊愕不已！
对此，全然不敢相信！
“98%？？！！”！
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